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DNK大日本科研近接曝光裝置

產品型號：MA-5111ML

產品品牌：DNK大日本科研

產品介紹：

大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關于該公司的詳細介紹：

詳細介紹

裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機EL等的量產。

主要特長

能夠進行節拍時間約20秒(標準規格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。
利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統,能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙。
可配置嚴格控制處理部位溫度環境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調控系統。
可選擇配置基板臺溫度控制系統及掩膜冷卻系統，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項)
能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫

主要規格

		MA-5501ML	MA-5701ML	MA-5111ML
基板尺寸		370 x 470mm	550 x 650mm	730 x 920mm
對位		非接觸預對位～自動對位
間隙		擁有傳感性能
光源		超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW or 5kW	超高壓水銀燈：10kW	超高壓水銀燈：18kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W2400 x D2480 x H2290mm (另有控制箱、局部空調、冷水機)	W3600 x D3870 x H2500mm (另有控制箱、局部空調、冷水機)	W7450 x D5000 x H3600mm (另有控制箱、局部空調、冷水機)
	本體重量	1500kg	1900kg	2000kg
	光源重量	500kg	1100kg	3500kg
	無塵機房重量	250kg	300kg
選購項		掩膜冷卻、基板臺溫度調節、溫控機房、特殊對位照明
用途		觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等

※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規格可商洽